制氫機(jī)生產(chǎn)廠(chǎng)家簡(jiǎn)述氫氣用途，氫氣廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)、冶金工業(yè)、食品加工、浮法玻璃、精細(xì)化工和天工業(yè)等很多領(lǐng)域。高純氫氣甚至純氫氣主要應(yīng)用在電子工業(yè)。
 

　　在一些電子材料的生長(zhǎng)與襯底的制備、氧化工藝、外延工藝中以及化學(xué)氣相淀積技術(shù)中，均要采用高純氫氣作為反應(yīng)氣、還原氣或保護(hù)氣。半導(dǎo)體集成電路生產(chǎn)對(duì)氫氣純度要求*，比如氧雜質(zhì)的允許濃度為10-12等。微量雜質(zhì)的“摻入”，將會(huì)改變半導(dǎo)體的表面特性，甚至使產(chǎn)品成品率降低或造成廢品。在制造非晶體硅太陽(yáng)能電池中，也需要用到純度很高的氫氣。非晶硅薄膜半導(dǎo)體是國(guó)際上近十年來(lái)研制成功的新材料，在太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換和信息技術(shù)等方面已展示出了誘人的應(yīng)用前景。光導(dǎo)纖維的應(yīng)用和開(kāi)發(fā)已經(jīng)規(guī)模使用，石英玻璃纖維是光導(dǎo)纖維的主要類(lèi)型，在光纖預(yù)制棒制造過(guò)程中，需要采用氫氧焰加熱，經(jīng)數(shù)十次沉積，對(duì)氫氣純度和潔凈度都有一定要求。
 

　　而在應(yīng)用到純氣體的行業(yè)中，大多數(shù)都在用著國(guó)外的氫氣提純?cè)O(shè)備，這些設(shè)備價(jià)格高，供給國(guó)內(nèi)的企業(yè)造成很大的生產(chǎn)成本，基于這樣的一個(gè)市場(chǎng)，我們決定研究純氫氣提純?cè)O(shè)備，使得氫氣的的純度能達(dá)到7個(gè)9甚至8個(gè)9以上。
 

　　該提純?cè)O(shè)備是由主體設(shè)備及柜體組成：主要由兩只預(yù)處理容器和兩只吸附凈化器組成及一些輔助的容器，管道，閥門(mén)，儀表等。整個(gè)系統(tǒng)的溫度和壓力由PLC控制完成。工作時(shí)，原料氣先后經(jīng)過(guò)預(yù)處理單元和凈化單元，合格的氣體。
 

　　該提純裝置目前設(shè)計(jì)的產(chǎn)品氣的純度是≥99.99999，能夠符合需要純氣體的設(shè)備的技術(shù)要求。